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產(chǎn)品中心Product center

scarpa

PICOSUN ALD原子層沉積系統(tǒng)R系列

產(chǎn)品編號:
市場價:¥0.00
會員價:¥0.00
品牌:中文
生產(chǎn)廠家:PICOSUN
需求數(shù)量:
提交詢價

此產(chǎn)品廣泛應用于:半導體、納米材料、鈉米科技、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領域。
PICOSUN公司是一個國際化的設備制造商,在全球有銷售和服務機構.我們開發(fā)和制造原子層沉積反應器用于微米和納米技術應用。PICOSUN為客戶提供用戶友好,可靠及多產(chǎn)的ALD工藝工具,提供獨一無二的從研發(fā)到生產(chǎn)的工業(yè)放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo,美國總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國及亞洲頂級的科學機構、公司。

 
PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業(yè)技術。Tuomo Suntola博士,于1974年發(fā)明了ALD技術,是PICOSUN董事會的成員。我們的首席技術官SVEN LINDFORS從1975年開始連續(xù)的設計ALD系統(tǒng)。綜合起來講,PICOSUN擁有了200多年的ALD經(jīng)驗并貢獻了100多項ALD專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術最佳的合作伙伴。
技術指標
SUNALE™ R系列技術特點
 
基本特點:
晶片尺寸                2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度                Up to 500°C
 
反應室體積                     小型、中型、大型
反應室材料                     316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驅體                            2-6 氣體 / 氣體 / 固體
 
基片裝載                氣體升降
 
 
尺寸:
尺寸                      27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量                               200 kg
 
 
 
工況:
電源                      100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵                            30-80 m3/h
載氣                      99.999 % N2  / Ar, min. 2 slm
 
壓縮空氣                4-5.5 bar 過壓
冷卻水                            反應器不需要
 
排氣                      為真空泵及源櫥柜配備
 
樣品裝載選項:

Picoloader™手動樣品裝載系統(tǒng),帶一個預真空室和閘閥

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