產(chǎn)品中心Product center
此產(chǎn)品廣泛應用于:半導體、納米材料、鈉米科技、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領域。
PICOSUN公司是一個國際化的設備制造商,在全球有銷售和服務機構.我們開發(fā)和制造原子層沉積反應器用于微米和納米技術應用。PICOSUN為客戶提供用戶友好,可靠及多產(chǎn)的ALD工藝工具,提供獨一無二的從研發(fā)到生產(chǎn)的工業(yè)放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo,美國總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國及亞洲頂級的科學機構、公司。
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SUNALE™ R系列技術特點
基本特點:
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度 Up to 500°C
反應室體積 小型、中型、大型
反應室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驅體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體
基片裝載 氣體升降
尺寸:
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg
工況:
電源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
載氣 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm
壓縮空氣 4-5.5 bar 過壓
冷卻水 反應器不需要
排氣 為真空泵及源櫥柜配備
樣品裝載選項:
Picoloader™手動樣品裝載系統(tǒng),帶一個預真空室和閘閥 |
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