ICP-MS是獲得認(rèn)可的痕量元素分析和定量的高效技術(shù)。 其應(yīng)用范圍從半導(dǎo)體工業(yè)到地質(zhì)和環(huán)保分析、從生物研究到材料科學(xué)。 ICP-MS最嚴(yán)重的限制是元素信號(hào)的多原子干擾，這種干擾主要來(lái)自氬或樣品基質(zhì)。 高質(zhì)量分辨率是識(shí)別和消除干擾的最佳標(biāo)準(zhǔn)。 即使沒(méi)有樣品制備步驟，消除干涉也能準(zhǔn)確可靠地進(jìn)行痕量級(jí)多元素定量分析。
多元素分析
- 多元素檢測(cè)器具備處理瞬態(tài)信號(hào)（包括CE、HPLC、GC、FFF和激光燒蝕）的速度
- 從超痕量到基質(zhì)組分、從mg/L到亞pg/L濃度范圍的覆蓋周期表的無(wú)干擾測(cè)量
- 與無(wú)機(jī)和有機(jī)固體以及幾乎所有溶液基質(zhì)兼容
全自動(dòng)的常規(guī)分析
- 自動(dòng)調(diào)節(jié)所有參數(shù)，包括透鏡、氣流和炬位，以獲得可重復(fù)而可靠的系統(tǒng)設(shè)置
- 全面、可定制的質(zhì)量控制系統(tǒng)
- 可靠耐用，可作為全年無(wú)休的生產(chǎn)控制工具，最大化樣品通量
具有靈活性和易用性的先進(jìn)研究工具
- 擁有權(quán)限進(jìn)入方法開(kāi)發(fā)的所有儀器參數(shù)
- 具有高質(zhì)量分辨率，可識(shí)別受干擾的同位素光譜： 生成明確的元素光譜
- 無(wú)論是否存在干擾情況，也能獲得高精度的同位素比檢測(cè)
- 熱和冷等離子體狀態(tài)
- 高穩(wěn)定性的同位素比
|